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 Atomic layer etching of gallium nitride using fluorine-based chemistry 氮化镓的氟基化学原子层刻蚀
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Lamiae Hamraoui; Tinghui Zhang; Ângela E. Crespi; Philippe Lefaucheux; Thomas Tillocher; et al 出版日期：2023-04-17 |
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