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书籍(章节) New Directions in the Design of Chemically Amplified Resists
化学放大抗蚀剂设计的新方向
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期刊:ACS symposium series 作者:Elsa Reichmanis; Mary E. Galvin; Kathryn E. Uhrich; Peter A. Mirau; Sharon A. Heffner 出版日期:1995-05-05 |
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