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标题
Effects of the focus ring on the ion kinetics at the wafer edge in capacitively coupled plasma reactors
聚焦环对电容耦合等离子体反应器晶片边缘离子动力学的影响
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薄脆饼 稠密等离子体焦点 材料科学 GSM演进的增强数据速率 光学（聚焦） 戒指（化学） 离子 等离子体刻蚀 等离子体 蚀刻（微加工） 光电子学 原子物理学 光学 纳米技术 化学 物理 工程类 电信 核物理学 图层（电子） 有机化学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0002585
DOI
10.1116/6.0002585 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Fangfang Ma; Quan‐Zhi Zhang; Dao-Man Han; Zilan Xiong; Ming Gao; et al
出版日期：2023-07-27
求助人
安好 在 2025-02-04 17:20:29 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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