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 Dry Etching Characteristics of InGaZnO Thin Films Under Inductively Coupled Plasma–Reactive-Ion Etching with Hydrochloride and Argon Gas Mixture InGaZnO薄膜在盐酸和氩气混合电感耦合等离子体-反应离子刻蚀下的干法刻蚀特性
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期刊：Materials 作者：Changyong Oh; Myeong Woo Ju; Hoyoung Jeong; Junho Song; Bo Sung Kim; et al 出版日期：2024-12-20 |
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