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标题
Effects of silicon doping on the chemical bonding states and properties of nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition
硅掺杂对等离子体增强化学气相沉积氮掺杂类金刚石薄膜化学键态和性能的影响
相关领域
材料科学 化学气相沉积 类金刚石碳 兴奋剂 等离子体增强化学气相沉积 碳膜 硅 异质结 退火（玻璃） 薄膜 碳纤维 化学键 化学工程 分析化学（期刊） 纳米技术 复合材料 光电子学 化学 复合数 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138923
AI链接 sciencedirect.comdoi.org
DOI
10.1016/j.tsf.2021.138923 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Kuniaki Nakamura; Haruhiko Ohashi; Yoshiharu Enta; Yoshiaki Kobayashi; Yushi Suzuki; et al
出版日期：2021-09-11
求助人
圆圆圆 在 2025-01-07 18:12:39 发布自浙江，悬赏 10 积分
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