Generation and elimination of silicon pitting for 300 mm CMOS process technologies

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标题	Generation and elimination of silicon pitting for 300 mm CMOS process technologies 300 mm CMOS工艺技术中硅点蚀的产生与消除相关领域材料科学硅薄脆饼氧化物冶金基质（水族馆）光电子学海洋学地质学
网址	https://doi.org/10.1116/1.4995023
DOI	10.1116/1.4995023 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Santosh Pani; Royston Hugh Hogan; Pandurangan Madhavan; Jian Zhang; Pak Koesun 出版日期：2017-10-20
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