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标题
Modeling photon, electron, and chemical interactions in a model hafnium oxide nanocluster EUV photoresist
模拟氧化铪纳米团簇EUV光刻胶中的光子、电子和化学相互作用
相关领域
抵抗 极紫外光刻 光子 光离子化 光刻胶 电子 材料科学 化学过程 密度泛函理论 纳米技术 化学物理 物理 化学 电离 计算化学 离子 光学 图层（电子） 有机化学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2552837
DOI
10.1117/12.2552837 doi
其它 期刊：
作者：Patrick L. Theofanis; James M. Blackwell; Marie Krysak; Florian Gstrein
出版日期：2020-05-05
求助人
LIU 在 2024-11-26 10:55:41 发布自上海，悬赏 20 积分
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