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 Depolarization mitigated in ferroelectric Hf 0.5Zr 0.5O 2 ultrathin films (< 5 nm) on Si substrate by interface engineering 通过界面工程减轻Si衬底铁电Hf 0.5 Zr 0.5 O2超薄膜(<5 nm）的去极化
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期刊：Journal of Advanced Ceramics 作者：Se Hyun Kim; Younghwan Lee; Dong Hyun Lee; Geun Hyeong Park; Hyun Woo Jeong; et al 出版日期：2024-03-13 |
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