Investigation of the removal mechanism in amorphous carbon chemical mechanical polishing for achieving an atomic-scale roughness

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标题	Investigation of the removal mechanism in amorphous carbon chemical mechanical polishing for achieving an atomic-scale roughness 非晶碳原子级粗糙度化学机械抛光去除机理研究相关领域原子单位抛光化学机械平面化材料科学无定形固体无定形碳碳纤维原子力显微镜表面光洁度表面粗糙度机制（生物学）比例（比率）冶金纳米技术化学工程复合材料化学结晶学复合数工程类物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160721
DOI	10.1016/j.apsusc.2024.160721 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Ziyang Wang; Pengzhan Liu; Seunghwan Lee; Jin-Hyoung Lee; Hyeonjeong Lee; et al 出版日期：2024-07-01
求助人	leo_twli 在 2024-10-28 10:21:36 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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