标题 |
A preliminary study of SF6 based inductively coupled plasma etching techniques for beta gallium trioxide thin film
三氧化三镓薄膜SF6电感耦合等离子体刻蚀技术的初步研究
相关领域
材料科学
感应耦合等离子体
蚀刻(微加工)
薄膜
三氧化物
分析化学(期刊)
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化学气相沉积
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