标题 |
ILT optimization of EUV masks for sub-7nm lithography
相关领域
极紫外光刻
平版印刷术
材料科学
下一代光刻
浸没式光刻
抵抗
多重图案
光电子学
光刻
X射线光刻
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计算机科学
制作
步进电机
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网址 | |
DOI |
10.1117/12.2279912
doi
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其它 |
期刊:33rd European Mask and Lithography Conference 作者:Kevin Hooker; Kevin Lucas; Bernd Küchler; Aram Kazarian; Guangming Xiao 出版日期:2017-09-29 |
求助人 |
研友_nxVpl8 在
2020-10-20 14:45:21 发布,悬赏 10 积分
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