Mechanisms of acid generation from ionic photoacid generators for extreme ultraviolet and electron beam lithography

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标题	Mechanisms of acid generation from ionic photoacid generators for extreme ultraviolet and electron beam lithography 极紫外光刻和电子束光刻用离子光酸发生器产酸机理相关领域离子键合阴极射线电子束光刻平版印刷术极端紫外线紫外线极紫外光刻电子材料科学抵抗光化学光电子学光学化学物理纳米技术离子激光器核物理学有机化学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1039/d4cp01814a
DOI	10.1039/d4cp01814a doi
其它	期刊：Physical Chemistry Chemical Physics 作者：Chengbin Fu; Kun Du; Junmin Xue; Hanshen Xin; Jianhua Zhang; et al 出版日期：2024-01-01
求助人	C/R 在 2024-09-30 11:15:09 发布自甘肃，悬赏 10 积分
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