| 标题 |
 A magnetron sputtering technique to prepare a-C:H films: Effect of substrate bias 磁控溅射制备a-C：H薄膜：衬底偏压的影响
相关领域
偏压
材料科学
微观结构
溅射沉积
无定形固体
基质（水族馆）
沉积（地质）
无定形碳
钻石
溅射
复合材料
腔磁控管
薄膜
类金刚石碳
碳膜
电压
分析化学（期刊）
冶金
纳米技术
结晶学
化学
电气工程
海洋学
地质学
古生物学
色谱法
沉积物
生物
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Yongxia Wang; Yinping Ye; Hongxuan Li; Ji Li; Jianmin Chen; et al 出版日期：2010-09-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
Agernon
Leonardi
灵巧高山
木心儿
SYLH
科研小民工
浦肯野
36456657
Zn
开心的访卉
龙玄泽
黑囡
VDC
HEIKU
tuanheqi
SCINEXUS
shinysparrow
刘荻萩
sutharsons
皖公网安备34019202002308
