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标题
The Study of Silicon Nitride Films Deposited In Batch ALD System
间歇ALD沉积氮化硅薄膜的研究
相关领域
薄脆饼 氮化硅 材料科学 原子层沉积 沉积（地质） 纳米技术 分析化学（期刊） 计算机科学 化学 图层（电子） 色谱法 生物 沉积物 古生物学
网址
https://doi.org/10.1109/cstic58779.2023.10219244
DOI
10.1109/cstic58779.2023.10219244 doi
其它 期刊：
作者：Shiyao Cheng; Wei Kuai; Wenxu Duan; Xinyang Wang; Xiaomeng Liu; et al
出版日期：2023-06-26
求助人
陈斌 在 2025-04-24 21:57:17 发布自福建，悬赏 10 积分
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  • 4小时前

    陈斌 陈斌 Lv1 求助人 发起了本次求助

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