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Direct growth of ferroelectric orthorhombic ZrO2 on Ru by atomic layer deposition at 300 °C

正交晶系 原子层沉积 铁电性 材料科学 沉积（地质） 图层（电子） 结晶学 分析化学（期刊） 纳米技术 光电子学 化学 电介质 晶体结构 古生物学 沉积物 色谱法 生物
作者
M. Ko,Ji Su Park,Soyun Joo,Seungbum Hong,Jong Min Yuk,Kyung Min Kim
出处
期刊：Materials horizons [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d4mh01119h
摘要
A CMOS-compatible low temperature ferroelectric orthorhombic ZrO 2 on Ru by atomic layer deposition is developed.
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