标题 |
Sputter-Deposited Mo Thin Films: Multimodal Characterization of Structure, Surface Morphology, Density, Residual Stress, Electrical Resistivity, and Mechanical Response
溅射沉积Mo薄膜:结构、表面形貌、密度、残余应力、电阻率和机械响应的多模态表征
相关领域
材料科学
薄膜
残余应力
纳米压痕
表面粗糙度
溅射
溅射沉积
微电子
复合材料
电阻率和电导率
薄板电阻
纳米技术
电气工程
工程类
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Integrating materials and manufacturing innovation 作者:Matias Kalaswad; Joyce O. Custer; Sadhvikas Addamane; Ryan M. Khan; Luis Jauregui; et al 出版日期:2023-04-24 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|