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 Line-edge roughness performance targets for EUV lithography EUV光刻的线边缘粗糙度性能目标
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Timothy A. Brunner; Xuemei Chen; Allen H. Gabor; Craig Higgins; Lei Sun; et al 出版日期：2017-03-24 |
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