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标题
Acid–base reactions in a positive tone chemically amplified photoresist and their effect on imaging
正色调化学放大光刻胶中的酸碱反应及其对成像的影响
相关领域
光刻胶 抵抗 中和 化学 基础（拓扑） 酸碱反应 有机化学 病毒 数学 生物 数学分析 病毒学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1116/1.1688351
DOI
10.1116/1.1688351 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
作者：Frances A. Houle; William D. Hinsberg; M. Sanchez
出版日期：2004-03-01
求助人
虚心盼夏 在 2025-02-06 17:14:17 发布自上海，悬赏 10 积分
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