Plasma-induced defect generation on silicon surfaces in HDP-CVD processing

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标题	Plasma-induced defect generation on silicon surfaces in HDP-CVD processing HDP-CVD工艺中等离子体诱导硅表面缺陷的产生相关领域材料科学等离子体溅射浅沟隔离等离子体处理电容光电子学 Crystal（编程语言）硅沟槽电介质沉积（地质）分析化学（期刊）薄膜纳米技术化学电极计算机科学沉积物物理生物量子力学物理化学古生物学色谱法程序设计语言图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/ppid.2000.870591
DOI	10.1109/ppid.2000.870591 doi
其它	期刊：作者：Hichem M’Saad; Sonal Desai; Derek Witty; Cyrille Hamon; Seon-Mee Cho; et al 出版日期：2002-11-07
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