Highly conformal carbon-doped SiCN films by plasma-enhanced chemical vapor deposition with enhanced barrier properties

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标题	Highly conformal carbon-doped SiCN films by plasma-enhanced chemical vapor deposition with enhanced barrier properties 等离子体增强化学气相沉积高共形碳掺杂SiCN薄膜相关领域等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积材料科学碳纤维原子层沉积化学工程分析化学（期刊）薄膜纳米技术化学复合材料有机化学复合数工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.04.042
DOI	10.1016/j.tsf.2018.04.042 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Woojin Lee; Yong‐Ho Choa 出版日期：2018-07-01
求助人	li 在 2025-02-08 14:10:48 发布自湖北，悬赏 10 积分
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