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 Deposition and Characterization of RP-ALD SiO2 Thin Films with Different Oxygen Plasma Powers 不同氧等离子体功率RP-ALD SiO2薄膜的沉积与表征
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期刊：Nanomaterials 作者：Xiaoying Zhang; Yue Yang; Zhi-Xuan Zhang; Peng Geng; Chia‐Hsun Hsu; et al 出版日期：2021-04-29 |
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