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标题
Unfolding an Elusive Area-Selective Deposition Process: Atomic Layer Deposition of TiO2 and TiON on SiN vs SiO2
展开一种难以捉摸的区域选择性沉积工艺：SiN与SiO2上TiO2和TiN的原子层沉积
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1021/acsami.3c17917
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acsami.3c17917 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Alfredo Mameli; Kandabara Tapily; Jie Shen; F. Roozeboom; Lu Miao; et al
出版日期：2024-03-05
求助人
Zever 在 2025-02-07 11:04:16 发布自湖北，悬赏 10 积分
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