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 Dielectric Properties and Carrier Transport Mechanism in Annealed HfOx‐Based Resistive Random Access Memory Devices 退火HfOx基电阻随机存储器件的介电特性和载流子输运机制
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期刊：Physica status solidi. A, Applications and materials science 作者：Junfeng Bai; Weiwei Xie; Yue Li; Fuwen Qin; Dejun Wang 出版日期：2024-04-01 |
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